000 02956nam a22003497a 4500
005 20181130064356.0
008 150910b1999 xxu||||| |||| 00| 0 spa d
041 _aspa
082 _aT617.643 C56t4
110 _aFundación Centro de Investigaciones y Estudios Odontológicos CIEO
_9158
245 _aAnálisis de la variación en las medidas y ángulos cefalométricos de pacientes antes y después de un ajuste oclusal
_cFundación Centro de Investigación y Estudios Odontológicos - CIEO, Luis Guillermo Arias Ochoa, Andrea María Noguera Abello, Walter Mario Ramírez Ríos
260 _aBogotá
_c1999
300 _a[V], 45 p.
_bil.
_c28 cm
500 _aEl presente informe es requisito para obtener el título de Especialista en Ortodoncia (Tesis)
500 _aLa Fundación Centro de Investigación y Estudios Odontológicos a partir del 2010 se desvincula de la Universidad Militar Nueva Granada y pasa a ser Fundación Universitaria CIEO - UniCIEO
504 _aContiene Bibliografía
505 _aResumen; Introducción; Método; Resultados; Discusión; Conclusiones; Prospectiva; Bibliografía
520 _aCon el fin de analizar las variaciones se tomaron radiografías cefalométricas estandarizadas a 20 pacientes de ortodoncia de la Fundación C.I.E.O. los cuales requerían un ajuste oclusal una vez finalizado el tratamiento ortodóncico. Se realizaron las respectivas cefalometrias con las radiografías pre y post ajuste oclusal, estableciendo comparaciones entre una y otra en todos los pacientes. Las medidas cefalométricas utilizadas fueron: convejidad facial, ángulo nasolabial, labio sup. e inf., long. Facial media efectiva, longitud efectiva mandibular, altura facial inferior, SNB, ANB, SND, convejidad, facial, SN (p-oclusal), SN(Go-Gn), FH(Me-Tang-post), (ENA-ENP)(Go-Gn), dirección de crecimiento, Incisivo sup(A-Pg), Incisivo Inferior(A-Pg), Incisivo Inferior(p-oclusal), e interincisivo. Los trazos cefalométricos fueron realizados por un solo operador. Los datos se recolectaron en tablas y se compararon los datos pre y pos ajuste oclusal. Se encontró que los cambios significativos ocurrieron más que todo en medidas verticales como la altura facial anterior, SNB, ANB, FH/Me-Tang post, ENA-ENP/Go-Gn, dirección de crecimiento e incisivo inferior (A-Pg) e incisivo inferior (p-oclusal). Esto debido a que el tallado realizado en el esmalte es mínimo y se expresa en este sentido y a nivel mandibular.
650 _aOrtodoncia
_995
650 _aOdontología
_927
650 _aAjuste oclusal
_91994
650 _aTallado selectivo
_91995
650 _aRelación céntrica
_91996
650 _aRadiografía lateral
_91997
650 0 _aCefalometría
_91110
700 _aArias, Luis Guillermo
_91998
700 _aNoguera, Andrea María
_91999
700 _aRamírez, Walter Mario
_92000
710 _aUniversidad Militar Nueva Granada
_9109
942 _2ddc
945 _aCJBM
_d2005-09-10
999 _c1052
_d1052